Анализ технологических тенденций с использованием патентно-поисковых систем / обозреватель Л. Г. Кравец // Патентное дело. — 2015. — № 1. — С. 39-40.
В данной статье проводится сопоставительный патентный анализ технологий производства экспозиционного оборудования для полупроводников в японских компаниях Canon и Nikon, а также в голландской компании ASML. В исследовании использовалась система патентного поиска YUPASS (Yamaguchi University Patent Search System) и программное обеспечение Patent Map EXZ для патентного картирования результатов поиска. Полученные данные сопоставлялись с отчетами о соответствующих маркетинговых исследованиях в этой области.